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半導體電子環(huán)氧塑封料(EMC)的耐電痕無鹵阻燃測試

日期:2024-10-11 02:12
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摘要:目前硅基半導體芯片所使用的封裝材料主要是環(huán)氧塑封料(EMC),對其電學性能的測試除了高低溫介電溫譜(介電常數(shù))、常溫高溫電場強度(電擊穿)及常溫高溫絕緣電阻(體積電阻率)測試以外,耐電痕無鹵阻燃也是非常重要的電學性能指標之一。

半導體電子環(huán)氧塑封料(EMC)的耐電痕無鹵阻燃測試

目前硅基半導體芯片所使用的封裝材料主要是環(huán)氧塑封料(EMC),對其電學性能的測試除了高低溫介電溫譜(介電常數(shù))、常溫高溫電場強度(電擊穿)及常溫高溫絕緣電阻(體積電阻率)測試以外,耐電痕無鹵阻燃也是非常重要的電學性能指標之一。

電痕是指電應力和電解雜質(zhì)在相互作用下會在材料的表面(或內(nèi)部)產(chǎn)生導電通道。耐局部放電特性和耐電痕絕緣設計對EMC來說十分重要,因為當EMC內(nèi)部出現(xiàn)未填充區(qū)域或空隙時,不僅會導致其絕緣強度下降,還會因為空隙中電荷的集中而產(chǎn)生局部放電,導致EMC性能劣化并對芯片產(chǎn)生破壞。衡量EMC耐電痕特性的指標是相比電痕化指數(shù)(CTI),按照絕緣材料的CTI指標范圍可將其分為5類,只有CTI600VEMC才可應用于功率電子器件的封裝。當然,無論是功率電子器件還是常規(guī)半導體器件,EMC的無鹵阻燃特性是不變的。

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